产品型号:GSL-1600X-Ⅱ-60-58
应用范围:1600℃双温区高温真空管式炉GSL-1600X-Ⅱ-60-58l每个加热区域长300mm,由30段智能温度调节仪进行控温,采用硅钼棒加热元件温度可达1600℃,采用硅碳棒加热元件温度可达1400℃,通过调节两个温区的控温程序使炉管内温度场形成一温度梯度。本机可用于CVD或PVD方法来生长纳米材料和制作各种薄膜。
400-0033-384
性能指标和基本配置 |
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产品型号 |
1600℃双温区高温真空管式炉GSL-1600X-Ⅱ-60-58 |
安装条件 |
本设备要求在海拔1000m以下,温度25°C±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:不需要 2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地 3、气:如作为CVD系统使用,需自备气源(标准带有宝塔接头,可自费改制成为双卡套接头)4、工作台:尺寸1200mm×600mm×700mm,承重300kg以上 5、通风装置:需要 |
主要特点 |
1、双层壳体,炉膛采用高纯氧化铝纤维,设有风冷系统,壳体表面温度<60℃。 2、内炉膛表面涂有氧化铝涂层,可以提高加热效率,同时延长使用寿命。 3、PID控制器,可以设置30段升降温程序,设有过热和断偶报警功能。 |
技术参数 |
1、电源:AC 220V 50Hz60Hz 9KW 2、氧化铝陶瓷管:外径Ø60mm Ø80mm,长1000mm 3、加热元件:1500℃级硅碳榛(温区I),1700℃级硅钼榛(温区II) 4、加热区域:每个温区300mm 5、工作温度:800-1400℃(温区I), 800-1600℃(温区II)6、升温速率:10℃/min 7、控温精度:±1℃8、热电偶:B型 |
产品规格 |
尺寸:780mm× 450mm × 720mm﹔重里:150kg |
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